会社情報TOP 社長挨拶 経営理念 会社概要 沿革 組織図 事業部紹介 ガスソリューション第一事業部 ガスソリューション第二事業部 ガスソリューション第三事業部 機器事業部 装置事業部 製造本部 研究開発室 事業所一覧 当社の強み 技術情報 TOP > 会社情報TOP > 事業部紹介 > 装置事業部 Easy Operation and Safetyをコンセプトに、オリジナルな半導体製造装置・付帯設備の設計・製造・販売をしています。また小ロット生産装置や研究評価用のオーダーメイド装置にも対応しています。 ガス系では超高温アニール装置やMOCVD装置、ウェット系ではCMP関連のスラリー及び薬液供給装置を主力に、ガス・液体両方の供給装置を手がけています。 日進月歩の半導体分野において常に最新鋭の技術に対応するため、研究開発に注力しています。基礎研究では大学や公的研究機関などとの共同研究を行ない、また、ベンチャー企業や海外先進メーカーからの技術・装置導入を図ってきました。 高温熱処理装置 最大1,380℃まで熱処理が出来る超高温熱処理装置 長寿命ヒーターを採用し、低金属汚染、スリップ低減を実現しました SiCパワーデバイス超高温熱処理装置 SiC MOSの性能を飛躍的に向上させる量産対応超高温縦型熱処理装置です CMPスラリー供給装置 半導体製造のウェーハ前処理工程であるCMP（化学機械研磨）用のスラリー液供給装置です 薬液定流量制御ユニット スラリー用過酸化水素自動滴定、自動補充装置 濃度管理ユニット スラリー液中の過酸化水素濃度を測定し濃度を一定に保持します   当社では、他にも当サイトでは紹介しきれない様々な機器、装置、工事関係やサービスを取り扱っています。 詳しくは商品総合カウンターの「商品サービス一覧」をご覧下さい。 お電話からのお問い合わせ TEL：044-435-5863(直通） FAX：044-434-9091 ページのTOPへ お問い合わせ | ご利用にあたって | 個人情報保護ポリシー | サイトマップ